博士後期課程3年の齋藤宏輝氏（藤野貴康准教授指導）が日本溶射学会第108回(2018年度秋季)全国講演大会での発表「外部磁場印加型カスケードプラズマトーチのアーク挙動に及ぼすガス流量の影響」により、ベストポスター賞を受賞しました。